設備優(yōu)勢：

1.高速加熱與冷卻方式

　　高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫效率和安。同時爐體可配置水冷系統(tǒng)，增設氣體冷卻裝置品牌，可實現(xiàn)快速冷卻深入開展。

2.溫度控制

　　近紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用，可以精確控制樣品的溫度(遠比普通加溫方式)等形式。此外技術的開發，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供。

3.不同環(huán)境下的加熱與冷卻

加熱/冷卻可用真空提供深度撮合服務、氣氛環(huán)境服務品質、低溫(高純度惰性氣體靜態(tài)或流動)，操作簡單組成部分，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室新的動力。

華測HCP650-PM 是一款溫度范圍-190°C ~ 600°C溫控探針臺的過程中，可單獨使用，也可搭配顯微鏡/光譜儀使用廣泛關註，同時允許探針電測試促進進步、光學觀察和樣品氣體環(huán)境控制。探針臺上蓋與底殼構成一個氣密腔優勢領先，可往內充入氮氣等保護氣體迎來新的篇章，來防止樣品在負溫下結霜，或高溫下氧化推動並實現，此款冷熱臺通過杠桿式支架薄弱點，使用的是彎針探針特點。相比傳統(tǒng)的直針探針，這種設計不僅點針準確重要性，而且點針力度大又進了一步，和樣品的電接觸性勝yi籌。冷熱臺可配合KEITHLEY Keysight等國際品牌測量源表進行電學測量多元化服務體系。

華測儀器  之選